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发布日期:2021年12月02日

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光刻设备・液晶面板光刻相关设备

半导体接近用UV固化设备/半导体内存设备(光刻设备・液晶面板)

作为紫外线照射设备在LSI制造生产线和内存制造生产线有约700台的购入记录。

  • 特征
  • 主要用途



・驱动蚀刻时的耐等离子性的提高
・去除电荷
・离子注入时的固体脱气及烧结
・绝缘膜的形成
・化合物半导体脱离工序
・CCD、CMOS截图
・提高湿蚀刻性&镀金性
・Low-kキュア

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